ScholarWorks@한양대학교

상세 보기

클로이달 실리카 슬러리의 물리화학적 특성이 Wafer Polishing 공정에 미치는 영향

  • 박재근
제목
클로이달 실리카 슬러리의 물리화학적 특성이 Wafer Polishing 공정에 미치는 영향
저자
박재근
발행일
2003-10-17
학회명
한국세라믹학회 추계총회 및 연구발표회
개최지
배재대학교

ScholarWorks@한양대학교

(04763) 서울특별시 성동구 왕십리로 222 Tel. +82-2-2220-1370 +82-2-2220-1366

COPYRIGHT © 한양대학교 All Rights Reserved.

Certain data included herein are derived from the © Web of Science of Clarivate Analytics. All rights reserved.

You may not copy or re-distribute this material in whole or in part without the prior written consent of Clarivate Analytics.