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Focus에 따른 마스크 특성 변화 완화가 가능한high-NA EUV 노광 공정용 high-k binary 마스크 연구

제목
Focus에 따른 마스크 특성 변화 완화가 가능한high-NA EUV 노광 공정용 high-k binary 마스크 연구
저자
안진호
발행일
2024-01-24
학회명
The 31th Korean Conference on Semiconductors
개최지
경주화백컨벤션센터

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