DC Bias에 의해 radical 효과가 극대화된 플라즈마 원자층 증착법으로 BDEAS 와 CO2 plasma로 증착된 고품질 SiO2 박막 High quality SiO2 film by radical improved DC bias PEALD using BDEAS and CO2 plasma
전형탁
제목
DC Bias에 의해 radical 효과가 극대화된 플라즈마 원자층 증착법으로 BDEAS 와 CO2 plasma로 증착된 고품질 SiO2 박막 High quality SiO2 film by radical improved DC bias PEALD using BDEAS and CO2 plasma