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HfO2/SiOxNy/Si 게이트 유전체 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성

  • 전형탁
제목
HfO2/SiOxNy/Si 게이트 유전체 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성
저자
전형탁
발행일
2005-08-16
학회명
Twelfth Canadian Semiconductor Technology Conference
개최지
Ottawa, Canada

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