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EUV ptychography microscope를 이용한 주기성 마스크 패턴의 고신뢰성 actinic 검사를 위한 EUV ptychography imaging 연구
- 제목
- EUV ptychography microscope를 이용한 주기성 마스크 패턴의 고신뢰성 actinic 검사를 위한 EUV ptychography imaging 연구
- 저자
- 안진호
- 발행일
- 2025-02-13
- 학회명
- The 32th Korean Conference on Semiconductors
- 개최지
- 강원도 하이원리조트