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EUV 펠리클 주름에 의한 마스크 회절 특성 변화가 마스크 이미지 전사 특성에 미치는 영향

제목
EUV 펠리클 주름에 의한 마스크 회절 특성 변화가 마스크 이미지 전사 특성에 미치는 영향
저자
안진호
발행일
2022-01-25
학회명
The 29th Korean Conference on Semiconductors
개최지
하이원리조트

ScholarWorks@한양대학교

(04763) 서울특별시 성동구 왕십리로 222 Tel. +82-2-2220-1370 +82-2-2220-1366

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