화염가수분해법으로 증착된 실리카 soot의 FTIR과 ICP-MS를 통한 조성분석

초록

FHD 공정은 광통신에서 사용되는 수동형 집적광학소자를 제작하는 공정으로서, SiCl4를 기상화시켜 산소와 수소의 혼합물에 의해 생성되는 고온의 화염에 공급함으로써 수화반응과 산화반응을 통해 SiO2를 형성하는 방법이다. 이 FHD 공정은 화염 형성에 관여하는 매우 다양한 공정인자에 의하여 박막의 조성이 결정되므로, 박막의 조성을 예측하는 것이 용이하지 않다. 본 연구에서는 FHD 공정에서 Dopant의 유량을 제어하여 박막의 조성 및 광학적 특성을 예측할 수 있는 공정 분석의 기초자료를 제공하기 위하여 FTIR과 ICP-MS를 이용하여 soot의 조성분석에 대한 연구를 수행하였다. FTIR 흡수스펙트럼을 통해 실리카 soot내의 존재하는 Si-O, B-O, OH(H2O) 농도의 변화를 관찰할 수 있었으며 ICP-MS를 통해 B-O의 흡수도를 정량화할 수 있었다.