ScholarWorks@한양대학교
조직
연구자
연구성과
저널
English
상세 보기
Diffusion barrier performance of cyclic-chemical vapor deposited TiN films for copper metalization
전형탁
Citation
APA
CHICAGO
MLA
VANCOUVER
IEEE
HARVARD
Export
XML (DC)
EXCEL
제목
Diffusion barrier performance of cyclic-chemical vapor deposited TiN films for copper metalization
저자
전형탁
발행일
1998-11-01
학회명
ISPSA-98
더보기