상세 보기
characteristics of chemical bond state on interfacil layer of HfO2/Si gate oxides by post annealing process
초록
1
- 제목
- characteristics of chemical bond state on interfacil layer of HfO2/Si gate oxides by post annealing process
- 저자
- 홍진표
- 발행일
- 2005-10-20
- 학회명
- 2005년 가을학술논문발표회
- 개최지
- 전북대학교