ScholarWorks@한양대학교
조직
연구자
연구성과
저널
English
상세 보기
Radiation-hard SiNx film by UHV ECR Plasma CVD for x-ray lithography mask membrane applications
안진호
Citation
APA
CHICAGO
MLA
VANCOUVER
IEEE
HARVARD
Export
XML (DC)
EXCEL
제목
Radiation-hard SiNx film by UHV ECR Plasma CVD for x-ray lithography mask membrane applications
저자
안진호
발행일
1995-06-01
학회명
Proc.PRICM-2
더보기