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Effect of pH in Colloidal Silica Slurry on Polishing Rate Selectivity of Nitrogen-doped Ge2Sb2Te5 to SiO2 in Chemical Mechanical Polishing
- 제목
- Effect of pH in Colloidal Silica Slurry on Polishing Rate Selectivity of Nitrogen-doped Ge2Sb2Te5 to SiO2 in Chemical Mechanical Polishing
- 저자
- 백운규
- 발행일
- 2009-05-21
- 학회명
- 춘계학술발표대회 및 제16회 신소재 심포지엄
- 개최지
- 무조리조트 티롤호텔