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Atomic Layer Deposition of HfO2 Films Using La(NO3)3∙6H2O Solution for Oxidant
- 제목
- Atomic Layer Deposition of HfO2 Films Using La(NO3)3∙6H2O Solution for Oxidant
- 저자
- 안진호
- 발행일
- 2018-02-06
- 학회명
- The 25th Korean Conference on Semiconductors
- 개최지
- 강원도 하이원리조트 컨벤션호텔