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Ultrathin Gate Dielectrics for Extremely Flexible MOSFETs via Atomic Layer Deposition (ALD) Process
- 제목
- Ultrathin Gate Dielectrics for Extremely Flexible MOSFETs via Atomic Layer Deposition (ALD) Process
- 저자
- 정예환
- 발행일
- 2025-11-11
- 학회명
- KISM 2025 BUSAN
- 개최지
- 부산, 대한민국