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Electrical characteristics of atomic layer deposition HfO2 High-k dielectric layer on Ge substrate
- 제목
- Electrical characteristics of atomic layer deposition HfO2 High-k dielectric layer on Ge substrate
- 저자
- 안진호
- 발행일
- 2008-10-23
- 학회명
- 2008년도 대한금속, 재료학회 추계 학술대회
- 개최지
- 송도컨벤시아