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Performance of high k HfO2 gate oxide prepared by an inductively coupled rf sputtering system at room temperature
- 제목
- Performance of high k HfO2 gate oxide prepared by an inductively coupled rf sputtering system at room temperature
- 저자
- 홍진표
- 발행일
- 2003-10-24
- 학회명
- 2003년도 가을 학술논문발표회
- 개최지
- 경북대