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The Characteristics of SiO2 Thin Film Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using BTBAS precursor

  • 전형탁
제목
The Characteristics of SiO2 Thin Film Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using BTBAS precursor
저자
전형탁
발행일
2015-11-26
학회명
2015년도 한국재료학회 추계학술대회 및 제 29회 신소재 심포지엄
개최지
부산 해운대 그랜드호텔

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