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EUVL 포토마스크 오염제어 전략 및 수평유동에서의 오염평가 모델
초록
Gaussian Diffusion Sphere Model (GDSM) was developed to predict particulate contamination for an aerosol flow over a flat surface. Good agreement was found when the GDSM was compared with the well-known theories. GDSM can be extended to predict particulate contamination of EUVL masks in a parallel flow. Extending the GDSM to predict particulate contamination of a face-down wafer/mask is going on.
- 제목
- EUVL 포토마스크 오염제어 전략 및 수평유동에서의 오염평가 모델
- 저자
- 육세진
- 발행일
- 2009-06-23
- 학회명
- 제3회 반도체공정 진단 Workshop
- 개최지
- 한국표준과학연구원, 대전