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Reliability characteristics of HfO2 gate dielectrics prepared by atomic layer deposition using HfCl4 and TEMAH
- 제목
- Reliability characteristics of HfO2 gate dielectrics prepared by atomic layer deposition using HfCl4 and TEMAH
- 저자
- 안진호
- 발행일
- 2005-03-27
- 학회명
- MRS spring meeting
- 개최지
- 센프란시스코