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HfO2 Films having wide ALD window using a Novel Heteroleptic Hf Precursor by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition
- 제목
- HfO2 Films having wide ALD window using a Novel Heteroleptic Hf Precursor by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition
- 저자
- 박진성
- 발행일
- 2022-01-24
- 학회명
- 제 29회 한국반도체학술대회