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Gate-Last Process Integration Issues with High-k Gate Dielectric and Metal Gate (HKMG) Technology
- 제목
- Gate-Last Process Integration Issues with High-k Gate Dielectric and Metal Gate (HKMG) Technology
- 저자
- 최창환
- 발행일
- 2012-02-17
- 학회명
- 제19회 한국반도체학술대회
- 개최지
- 고려대학교(서울), 한국