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The Characterization of N-channel Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor (nMOSFET) with Sputtered SrTiO3-Doped HfO2 Gate Dielectrics
- 제목
- The Characterization of N-channel Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor (nMOSFET) with Sputtered SrTiO3-Doped HfO2 Gate Dielectrics
- 저자
- 최창환
- 발행일
- 2010-11-11
- 학회명
- 2010년 추계학술발표 대회 및 제19회 신소재 심포지엄
- 개최지
- 무주리조트