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초저온 전자온도 플라즈마를 활용한 Gate-All-Around FET 제조 공정에서의 플라즈마 유발 손상 저감

제목
초저온 전자온도 플라즈마를 활용한 Gate-All-Around FET 제조 공정에서의 플라즈마 유발 손상 저감
저자
정진욱
발행일
2025-08-22
학회명
제69회 한국진공학회
개최지
Phoenix Island, Jeju, Korea

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