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The NH3 Plasma Treatment within ALD HfO2 of IGZO Thin Film Transistors (TFTs) and Its Impact on the Electrical Characteristics
- 제목
- The NH3 Plasma Treatment within ALD HfO2 of IGZO Thin Film Transistors (TFTs) and Its Impact on the Electrical Characteristics
- 저자
- 최창환
- 발행일
- 2018-02-06
- 학회명
- 한국반도체학술대회
- 개최지
- 강원도 하이원리조트 컨벤션호텔