상세 보기
The Improved Ferroelectric Characteristics of Ferroelectric Memory Devices using ALD SiO2 and Al2O3 Interlayers
- 제목
- The Improved Ferroelectric Characteristics of Ferroelectric Memory Devices using ALD SiO2 and Al2O3 Interlayers
- 저자
- 최창환
- 발행일
- 2022-01-26
- 학회명
- 한국반도체학술대회
- 개최지
- 강원도 하이원 그랜드 호텔