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The controlled nitrogen profile and amount in SiO2 thin film using remote plasma oxidation and nitridation for DRAM application
- 제목
- The controlled nitrogen profile and amount in SiO2 thin film using remote plasma oxidation and nitridation for DRAM application
- 저자
- 최창환
- 발행일
- 2023-02-14
- 학회명
- 한국반도체학술대회 (KCS)
- 개최지
- 정선 하이원 그랜드 호텔