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Impacts of Ar/N2 Flow rate of sputtered TiN Metal Gate on Electrical Properties in Gate-First Processed MOS Devices
- 제목
- Impacts of Ar/N2 Flow rate of sputtered TiN Metal Gate on Electrical Properties in Gate-First Processed MOS Devices
- 저자
- 최창환
- 발행일
- 2012-02-16
- 학회명
- 제19회 한국반도체학술대회
- 개최지
- 고려대학교 (서울), 한국